国家知识产权局信息数据显现，姑苏润邦半导体资料科技有限公司请求一项名为“一种光刻胶抗反射底涂层用偶联剂、制备办法及其使用”的专利，公开号CN121064201A，请求日期为2025年8月。专利摘要显现，本发明触及一种光刻胶抗反射底涂层用偶联剂、制备办法及其使用，归于光刻胶技术领域。本发明的制备办法有以下过程：S1、将甘脲和溶剂混合均匀，参加有机弱碱调理pH为7-9，得到混合液；S2、维护气氛下，于55℃-65℃条件下，向混合液中滴加榜首卤代烷溶液和第二卤代烷溶液并进行反响，反响彻底后参加有机弱酸调理pH为2-4，然后顺次参加猝灭剂和沉淀剂进行重结晶，经过滤、枯燥得到烷基甘脲；榜首卤代烷和第二卤代烷不同；S3、将烷基甘脲、阳离子树脂和醚类溶剂混合均匀，经减压蒸馏、重结晶、过滤、枯燥得到偶联剂。该办法过程少，质料成本低，简略易操作，反响操控接枝位点及接枝分子结构，副产少，纯度高，收率高。
天眼查资料显现，姑苏润邦半导体资料科技有限公司，成立于2019年，坐落姑苏市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本5593.1371万人民币。经过天眼查大数据分析，姑苏润邦半导体资料科技有限公司共对外出资了6家企业，参加招投标项目7次，产业线条，此外企业还具有行政许可31个。
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